本教程将会教你通过PS剪切蒙版与图层样式，快速制作内嵌式立体字效果。
效果图：
主要过程：
STEP1 新建画布，背景设置
新建画布 – 宽*高：3000*3000像素，分辨率：72，颜色模式：RGB，背景：白色
背景设置 – Ctrl+G 建组（命名bg），背景层填充颜色 #73c0c8 ，为它增加图层样式，参数如图
STEP2 “字”设置
Ctrl+G建新组，命名“字”，选粗一点的字体（这里使用的字体是Fester），颜色#FFA1B8
右键转换为智能对象，为它增加图层样式，参数如图
STEP3 “字效”设置
Ctrl+G建新组，命名为“字效”
复制一层“UISDC”，命名为字效，去除掉之前的图层样式，填充为0
为它增加图层样式，参数如图
STEP4 “阴影”设置
复制“字效”层，改命名为“阴影”，为它增加图层样式，参数如图
方向键，向下，左分别移动2像素
为它增加图层样式，参数如图
STEP5 制作内阴影
复制5次“阴影”层，向下创建剪切蒙版
修改5层“阴影”层副本的【高斯模糊】值，分别是：6、8、10、20、30
对第5层“阴影”层副本添加图层样式，参数如图
STEP6 制作内阴影
复制UISDC文字层，右键-转化为只能对象，颜色 #0a4b61
方向键，向左，向下移动 5px ，模糊-高斯模糊 值为10，透明度25%
教程结束，以上就是PS六步快速制作内嵌式有阴影的立体字教程的全部内容，希望大家喜欢！
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苹果官方表示：
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RTX 5090要首发 性能要翻倍！三星展示GDDR7显存
三星在GTC上展示了专为下一代游戏GPU设计的GDDR7内存。
首次推出的GDDR7内存模块密度为16GB，每个模块容量为2GB。其速度预设为32 Gbps（PAM3），但也可以降至28 Gbps，以提高产量和初始阶段的整体性能和成本效益。
据三星表示，GDDR7内存的能效将提高20%，同时工作电压仅为1.1V，低于标准的1.2V。通过采用更新的封装材料和优化的电路设计，使得在高速运行时的发热量降低，GDDR7的热阻比GDDR6降低了70%。
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